NOTÍCIAS [página inicial] [voltar]
30/01/2012


Risqué lança coleção Technology e apresenta nova técnica de esmaltar as unhas no SPFW


Na 32° edição do São Paulo Fashion Week, a Risqué apresentou seu grande lançamento: Risqué Technology. Linha composta por duas bases, uma cobertura brilhante (Top Coat) e um óleo noturno, que auxiliam nos cuidados com as unhas. O destaque é para Risqué Technology Cobertura Brilhante que reduz o tempo de secagem dos esmaltes para 30 segundos. Essa novidade alia a praticidade da secagem rápida ao acabamento que proporciona 66% mais brilho e aumenta durabilidade do esmalte em até dez dias.

A linha ainda conta com Risqué Technology Base Reestruturadora, Risqué Technology Base Niveladora, e Risqué Technology Reparador Noturno.

Durante a semana de moda mais cobiçada do País, quem passou pelo lounge da marca também pode esmaltar as unhas com a nova técnica Ombrè, última tendência de moda em decoração de unhas, levada com exclusividade pela marca para o SPFW.

Sucesso em desfiles internacionais, a proposta consiste em fazer um degradê de cores com os esmaltes Risqué, deixando a divisão dos tons suaves e sem uma linha definida. "Ombrè by Risqué" é um efeito que pode ser conseguido com diferentes tonalidades de esmaltes Risqué, com cores complementares ou opostas, criando várias combinações.

O estilista Reinaldo Lourenço, que mantém parceria com Risqué há oito anos, prestigiou o espaço VIP da marca e apresentou as tendências de cores para sua nova Coleção Outono/Inverno 2012. Entre os famosos que visitaram o lounge estiveram a piloto da Fórmula Indy Bia Figueiredo, a ex-Mulher Samambaia, Danielle Souza, e a apresentadora da Record News, Amanda Françozo. As belas prestigiaram as novidades de Risqué e aproveitaram para tirar fotos com fãs que também estavam no local.


envie este texto
para um amigo
versão para impressão